新材料学院在原子层沉积的研究方面取得重要进展

更新时间:2017-03-07 11:07:02

  原子层沉积(ALD)技术是一种先进的薄膜制备技术,其特点在于能够在原子尺度上实现对薄膜成分厚度的精确控制。

  新材料学院王新炜课题组一直致力于新型ALD方法的开发与研究。近些年来,该课题组开发了多种新材料的ALD工艺,如硫化钴(Nano Letters (2015) 15, 6689)、硫化镍(Chemistry of Materials (2016) 28, 1155)、氧化钒(Advanced Functional Materials (2016) 26, 4456)等,并将这些材料应用于能源器件和有机电子器件中,展示了所制得ALD材料的多种优异性能。

  近日,该课题组又开发了一种新型的硫化铁材料的ALD工艺。该工艺所制得的ALD硫化铁薄膜材料具有优异的有机催化性能,可以有效地催化偶氮苯类化合物的加氢反应。该工作于近期在线发表在《应用化学(Angewandte Chemie)》(DOI: 10.1002/anie.201700449)。该论文的(共同)第一作者是新材料学院的博士后邵友东和2016级博士生国政。

相关链接:

Youdong Shao#, Zheng Guo#, Hao Li, Yantao Su, and Xinwei Wang*, “Atomic Layer Deposition of Iron Sulfide and Its Application as a Catalyst in the Hydrogenation of Azobenzenes”, Angewandte Chemie International Edition Early View (2017). (#Equal contribution)

 DOI: 10.1002/anie.201700449